| 发明名称 |
Dünnschichtausbildungsverfahren und Dünnschichtausbildungseinrichtung |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE10297024(T5) |
申请公布日期 |
2004.08.05 |
| 申请号 |
DE20021097024T |
申请日期 |
2002.07.03 |
| 申请人 |
HAMAMATSU PHOTONICS K.K., HAMAMATSU |
发明人 |
OHBAYASHI, YASUSHI |
| 分类号 |
C23C14/08;C23C14/24;C23C14/30;C23C14/54;G02B1/10;G02B5/28;(IPC1-7):G02B5/28 |
主分类号 |
C23C14/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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