发明名称 |
METHOD FOR PRODUCTION OF A FACETTED MIRROR |
摘要 |
<p>Bei einem Verfahren zur Herstellung eines Facettenspiegels 24 mit mehreren Spiegelfacetten 12 und 12', insbesondere für eine Beleuchtungseinrichtung in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie und hier insbesondere für die Verwendung mit einer Beleuchtung im Bereich des extremen Ultravioletts wird in einem ersten Verfahrensschritt die Spiegelfacette 12,12' gefertigt. Danach wird in einem zweiten Verfahrensschritt die Winkelabweichung der optischen Achse der Spiegelfläche jeder der Spiegelfacetten gegenüber der Normalen 20 der Spiegelfacette 12,12' ermittelt. Anschliessend wird in einem dritten Verfahrensschritt in Kenntnis der im zweiten Verfahrensschritt ermittelten Messwerte für die jeweilige Spiegelfacette 12,12' eine Aufnahmebohrung 22 in eine Trägerplatte 16 eingebracht. Die Aufnahmebohrung 22 ist hinsichtlich der zu erzielenden Winkelstellung bereits um den im zweiten Verfahrensschritt gemessenen Messwert korrigiert. Dann werden die Spiegelfacetten 12,12' in die für die jeweilige Spiegelfacette 12,12' vorgesehene Aufnahmebohrung 22 eingesetzt, wonach eine erneute Messung der Ausrichtung der Spiegeloberfläche 15 jeder Spiegelfacette 12,12' erfolgt. Abschliessend erfolgt eine Nachbearbeitung der Spiegeloberfläche 15 der Spiegelfacette 12,12' zum Erzielen der endgültigen geforderten Winkelgenauigkeit.</p> |
申请公布号 |
WO2004066010(A1) |
申请公布日期 |
2004.08.05 |
申请号 |
WO2004EP00331 |
申请日期 |
2004.01.17 |
申请人 |
CARL ZEISS SMT AG;WEISS, MARKUS;SEIFERT, ANDREAS;HEISLER, ANDREAS;DORNHEIM, STEFAN |
发明人 |
WEISS, MARKUS;SEIFERT, ANDREAS;HEISLER, ANDREAS;DORNHEIM, STEFAN |
分类号 |
G02B7/182;G03F7/20;(IPC1-7):G02B7/182 |
主分类号 |
G02B7/182 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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