首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Verfahren zur Messung einer charakteristischen Abmessung wenigstens einer Struktur auf Halbleiterwafern
摘要
申请公布号 DE10134755(B4) 申请公布日期 2004.08.05
申请号 DE20011034755 申请日期 2001.07.17
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 BROERMANN, OLIVER
分类号 G03F7/20;H01L21/00;(IPC1-7):H01L21/66;G12B21/06;G01N21/47;G01N21/55;G01B11/24 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com