Substrat und Verfahren zum Bilden eines Substrats für eine Fluidausstoßvorrichtung

摘要

Ein Verfahren zum Bilden einer Öffnung durch ein Substrat mit einer ersten Seite und einer zweiten Seite gegenüber der ersten Seite umfaßt ein Bilden eines Grabens in der ersten Seite des Substrats, ein Bilden einer Maskenschicht innerhalb des Grabens, ein Bilden von zumindest einem Loch in die Maskenschicht, ein Befüllen des Grabens und des zumindest einen Lochs, ein Bilden eines ersten Abschnitts der Öffnung in dem Substrat von der zweiten Seite des Substrats zur Maskenschicht und ein Bilden eines zweiten Abschnitts der Öffnung in dem Substrat von der zweiten Seite des Substrats durch das zumindest eine Loch in der Maskenschicht zur ersten Seite des Substrats.