发明名称 用处理溶液来处理基板的处理设备
摘要 即使基板尺寸增加,基板被均匀地处理(蚀刻)。一超音波振荡器(103)安排在一蚀刻容器(101)下方,一基板(120)水平地安排在蚀刻容器(101)内,因此,基板(120)安排成使一表面面对超音波振荡器(103),基板(120)在被一旋转机构(130)旋转之同时被蚀刻。
申请公布号 TW200414290 申请公布日期 2004.08.01
申请号 TW092134580 申请日期 2003.12.08
申请人 佳能股份有限公司 发明人 山方宪二;口清文;柳田一隆;菅井崇;高梨一仁
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本