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经营范围
发明名称
用处理溶液来处理基板的处理设备
摘要
即使基板尺寸增加,基板被均匀地处理(蚀刻)。一超音波振荡器(103)安排在一蚀刻容器(101)下方,一基板(120)水平地安排在蚀刻容器(101)内,因此,基板(120)安排成使一表面面对超音波振荡器(103),基板(120)在被一旋转机构(130)旋转之同时被蚀刻。
申请公布号
TW200414290
申请公布日期
2004.08.01
申请号
TW092134580
申请日期
2003.12.08
申请人
佳能股份有限公司
发明人
山方宪二;口清文;柳田一隆;菅井崇;高梨一仁
分类号
H01L21/00
主分类号
H01L21/00
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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