用作光阻之具融合4员环多环基之氟化聚合物,及微影蚀刻之方法

摘要

本发明提供一种聚合物，其具有：(a)至少一种衍生自乙烯性不饱和化合物之重复单位，该化合物具有至少一个共价结合于一乙烯性不饱和碳原子之氟原子；及(b)至少一种衍生自以下结构之乙烯性不饱和环化合物之重复单位：092121991p01.bmp其中n为0、1或2；且R^1至R^4独立为H、视需要由卤素或醚氧取代的C1–C10烷基或烷氧基、或C6–C20芳基。此等聚合物可用于制造光阻剂组合物及经涂覆基材。