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形成多种宽度间隙壁之方法
摘要
形成多种宽度或形状之间隙壁的方法包括下列步骤。首先,提供一个基材,其上具有多个分布不同区域的结构,且这些结构需于侧面形成间隙壁。然后,在此基材上形成多层具有不同蚀刻比的介电层。接着,依据间隙壁的规格需求,进行至少一次的微影蚀刻作业。此微影蚀刻作业包括形成图案化光阻以曝露一部份区域,对此曝露区域进行选择性蚀刻,以及在蚀刻后移除光阻。藉由不同区域的介电层受到不同的选择性蚀刻,以在不同区域产生形状或层数不同的介电层物质,而利用这些介电层物质便可组成不同宽度的间隙壁。
申请公布号
TW200414403
申请公布日期
2004.08.01
申请号
TW092101177
申请日期
2003.01.20
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
雷明达;林义雄;刘埃森;林正忠;彭宝庆;林佳惠
分类号
H01L21/76
主分类号
H01L21/76
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
新竹科学工业园区新竹县园区三路一二一号
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