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发明名称
透明薄膜之形成方法、藉由该方法所形成之透明薄膜以及具备透明薄膜之透明基体
摘要
本发明系提供一种透明薄膜之形成方法,系以使用原料气体之化学气相沉积法进行透明薄膜之形成,其成膜速度在8nm/s以上,该透明薄膜含有择自碳(C)及氧(O)中至少一者、氮(N)、氢(H)及矽(Si)。若依本发明,可以使薄膜中张力缓和而不易由基体上剥离,且于浮式浴内在玻璃带上能形成可见光穿透率高之透明薄膜。
申请公布号
TW200413264
申请公布日期
2004.08.01
申请号
TW092119237
申请日期
2003.07.15
申请人
板硝子股份有限公司
发明人
大谷强;平田昌宏
分类号
C03C17/22
主分类号
C03C17/22
代理机构
代理人
林镒珠
主权项
地址
日本
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