发明名称 透明薄膜之形成方法、藉由该方法所形成之透明薄膜以及具备透明薄膜之透明基体
摘要 本发明系提供一种透明薄膜之形成方法,系以使用原料气体之化学气相沉积法进行透明薄膜之形成,其成膜速度在8nm/s以上,该透明薄膜含有择自碳(C)及氧(O)中至少一者、氮(N)、氢(H)及矽(Si)。若依本发明,可以使薄膜中张力缓和而不易由基体上剥离,且于浮式浴内在玻璃带上能形成可见光穿透率高之透明薄膜。
申请公布号 TW200413264 申请公布日期 2004.08.01
申请号 TW092119237 申请日期 2003.07.15
申请人 板硝子股份有限公司 发明人 大谷强;平田昌宏
分类号 C03C17/22 主分类号 C03C17/22
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 日本