热处理装置及热处理方法

摘要

本发明的热处理装置，是具备：保持复数基板的保持具，及搬入有上述保持具的反应容器，及在上述反应容器供给处理气体的处理气体供给机构，及在供给上述处理气体时加热上述反应容器而在基板施以成膜处理的加热机构。对应在一分批处理所预定处理的基板的枚数资料与上述处理气体的流量参数的目标值资料的流量参数表资料，被记忆在流量参数表资料记忆部。控制手段是按照在一分批处理所预定处理的基板的实际枚数，依据被记忆在上述流量参数表资料记忆部的流量参数表，得到上述处理气体的流量参数的目标值资料，而且依照该目标值资料控制上述处理气体供给机构。上述流量参数的目标值资料，是所预定处理的基板枚数互相不相同的分批处理间决走成膜速度成为一致。