发明名称 薄膜形成装置及方法
摘要 藉由电力施加装置将电力施加在从气体供给装置被供给到可藉由排气装置实施排气减压之真空容器内之膜形成用气体而使该气体电浆化,根据该电浆而在配置在该容器内的物品上形成薄膜。气体供给装置具备有具有面向物品之膜形成对象面的气体喷出用面部的气体喷出用构件,电力施加装置具有被设置在容器内的电力施加用电极,气体喷出用构件具有被分散形成在其气体喷出用面部的多个的气体喷出孔,上述电极则被配置成从该空间周围领域面向物品与和其相对之气体喷出用面部间的空间。藉由上述的装置,在不会导致电浆电位增加的状态下即可提高电浆密度,而能够高速地形成优良品质且膜厚均一性良好的薄膜。
申请公布号 TW200413564 申请公布日期 2004.08.01
申请号 TW092125509 申请日期 2003.09.16
申请人 日新电机股份有限公司 发明人 桐村浩哉;久保田清;小野田正敏;鞍谷直人
分类号 C23C16/513;H01L21/365 主分类号 C23C16/513
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本