离子投影微影用高敏感度及高溶解度光阻剂

摘要

本发明系有关一种用于离子投影微影之光阻剂，以及使用本发明所揭示之光阻剂将基材图案化的方法。该光阻剂包含三苯基硫盐过氟烷基磺酸之光学酸，以及三苯基硫盐醋酸酯之光学硷。该光阻剂显示有非常高曝光敏感性，并且因此极优异地适合于离子束投影微影技术。因而可能以小于4μC／cm^2之敏感度达到低于90奈米之解析度。092124514p01.bmp其中n为一介于1到10之间的整数以及以三苯基硫盐醋酸酯为光学酯。