| 摘要 |
适用于形成提供高解析度微影技术之一种深紫外光(特别是193nm与248nm)双层光阻系统中的表层可光成像性涂层之新颖共聚物。适用于可光成像性蚀刻阻抗型光阻组成物的黏合剂树脂中之化学扩增型光阻组成物与有机矽部份，该光阻组成物适合作为使用该新颖共聚物之氟化氩与氟化氪光微影技术中之一材料。新颖的共聚物包括一个第一重复单元，其系由化学结构(IA)或化学结构(IB)或化学结构(IC)所代表的一或多个单元所组成：092130239p01.bmp其中各R^1系独立地为一个氢原子或一个甲基；R^3为具有1至20个碳原子之一个直链、分支与环状烷基或脂环基；m为约2至约10之一整数；各R^4系独立地为氢或化学结构(II)：092130239p02.bmp其中R^5、R^6及R^7独立地为具有1至20个碳原子之直链、分支或环状烷基或脂环基或氟烷基；其中各R^2可独立地为：(a)直链、分支或环状烷基未取代或取代的脂环基，其具有1至20个碳原子；(b)具有1至20个碳原子之直链、分支或环状氟烷基或被氟取代的脂环基；及(c)一个极性基，诸如：(1)(CH2)n–OR^8，其中n为约2至约10之一整数，而R^8可为氢、R^3基或α–烷氧基烷基；(2)(CH2)n–(C＝O)–OR^9，其中n具有如上所界定之含意，而R^9可为氢、R^3基或一个酸敏感性保护基；(3)(CH2)n–C(CF3)R^10–OR^11，其中n具有如上所界定之含意，而R^10可为氢或氟甲基、二氟甲基或三氟甲基，及R^11可为氢或R^3烷基；及(4)(CH2)n–O–(C＝O)R^3，其中n具有上述的含意，而R^3为一个具有1至20个碳原子之直链、分支与环状烷基或脂环基；及一个由化学结构(III)所代表之第二重复单元：092130239p03.bmp其中R^1具有如上所界定之含意，而R^12为一个酸不安定性基，前提在于当在该共聚物中存在化学结构(IA)及R^12为特–丁基时，则必须存在一个具化学结构(IV)或化学结构(VI)之附加的重复单元，或一个衍生自不同于化学结构(IA)、(IB)与(IC)之一种乙烯不饱和、可聚合性矽化合物之如后所界定的重复单元；及其中化学结构(IV)如下：092130239p04.bmp其中R^1具有如上所界定之含意，而R^13系选自下列群中的化学结构(Va–Vg)：092130239p05.bmp及化学结构(VI)为：092130239p06.bmp其中R^1具有如上所界定之含意。092130239p01.bmp |
