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发明名称
基板清洗装置及基板处理设备
摘要
本发明提供一种基板清洗装置,其包含:一第一清洗室,其包括一用于清洗被置放于其中之基板的第一清洗部分;及一第二清洗室,其包括一用于清洗被配备于其中之基板的第二清洗部分。该第一清洗室被堆叠于该第二清洗室上,使得该第一清洗室之至少一部分重叠该第二清洗室之至少一部分。
申请公布号
TW200413112
申请公布日期
2004.08.01
申请号
TW092134176
申请日期
2003.12.04
申请人
夏普股份有限公司
发明人
吉泽武德
分类号
B08B5/00;H01L21/30
主分类号
B08B5/00
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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