发明名称 基板清洗装置及基板处理设备
摘要 本发明提供一种基板清洗装置,其包含:一第一清洗室,其包括一用于清洗被置放于其中之基板的第一清洗部分;及一第二清洗室,其包括一用于清洗被配备于其中之基板的第二清洗部分。该第一清洗室被堆叠于该第二清洗室上,使得该第一清洗室之至少一部分重叠该第二清洗室之至少一部分。
申请公布号 TW200413112 申请公布日期 2004.08.01
申请号 TW092134176 申请日期 2003.12.04
申请人 夏普股份有限公司 发明人 吉泽武德
分类号 B08B5/00;H01L21/30 主分类号 B08B5/00
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本