| 主权项 |
1.一种传送机构,适于传送至少一矩形基板沿着一 传送路径移动,该传送机构包括: 复数个第一转轴; 复数个第一滚轮,该些第一滚轮分别配置于该些第 一转轴上,且沿着该传送路径排列,每一该些第一 滚轮具有一滚轮面系与该矩形基板之底缘接触; 复数个第二转轴;以及 复数个第二滚轮,该些第二滚轮分别配置于该些第 二转轴上,并沿着该传送路径排列,且位于任意两 相邻之该些第一滚轮之间,其中每一该些第二滚轮 具有一滚轮面,该滚轮面系与该矩形基板之侧壁接 触,以使该矩形基板能保持沿着该传送路径移动。 2.如申请专利范围第1项所述之传送机构,其中该些 第二滚轮系位于每两相邻之该些第一滚轮之间。 3.如申请专利范围第1项所述之传送机构,另包括一 第一环状弹性构件,其中该第一环状弹性构件系配 置于每一该些第一滚轮之该滚轮面上。 4.如申请专利范围第1项所述之传送机构,其中该些 第一滚轮为主动滚轮。 5.如申请专利范围第1项所述之传送机构,其中该些 第一滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮 。 6.如申请专利范围第1项所述之传送机构,其中该些 第二滚轮为主动滚轮。 7.如申请专利范围第1项所述之传送机构,其中该些 第二滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮 。 8.如申请专利范围第1项所述之传送机构,其中该些 第二滚轮为被动滚轮。 9.如申请专利范围第1项所述之传送机构,其中该第 一滚轮另包括: 一滚轮部,具有该滚轮面;以及 一导引部,系与该滚轮部连接,其中该导引部具有 一朝向该滚轮面倾斜之导引斜面。 10.如申请专利范围第1项所述之传送机构,另包括: 复数个第三转轴;以及 复数个第三滚轮,该些第三滚轮分别配置于该些第 三转轴上,并沿着该传送路径排列,且位于该些第 一滚轮之上方,其中每一该些第三滚轮具有一滚轮 面,系与该矩形基板之顶缘接触。 11.如申请专利范围第10项所述之传送机构,其中该 些第三滚轮为主动滚轮。 12.如申请专利范围第10项所述之传送机构,其中该 些第三滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚 轮。 13.如申请专利范围第10项所述之传送机构,其中该 些第三滚轮为被动滚轮。 14.如申请专利范围第10项所述之传送机构,另包括 一第二环状弹性构件,其中该第二环状弹性构件系 配置于每一该些第三滚轮之该滚轮面上。 15.一种湿式处理设备,适于对至少一矩形基板进行 一湿式处理制程,该湿式处理设备包括: 一处理室,具有至少一输入端及至少一输出端; 一传送机构,适于传送至少一矩形基板沿着一传送 路径移动,该传送机构包括: 复数个第一转轴; 复数个第一滚轮,该些第一滚轮分别配置于该些第 一转轴上,且沿着该传送路径排列,每一该些第一 滚轮具有一滚轮面系与该矩形基板之底缘接触; 复数个第二转轴;以及 复数个第二滚轮,该些第二滚轮分别配置于该些第 二转轴上,并沿着该传送路径排列,且位于任意两 相邻之该些第一滚轮之间,其中每一该些第二滚轮 具有一滚轮面,该滚轮面系与该矩形基板之侧壁接 触,以使该矩形基板能保持沿着该传送路径移动; 一反应液体供给装置,系配置邻近于该输入端,且 位于该矩形基板的上方,该反应液体供给装量适于 喷射一反应液体于该矩形基板之顶面;以及 一清洗液供给装置,系配置于该酸液供给装置及该 输出端之间,且位于该矩形基板的上方,该清洗液 供给装置适于喷射一清洗液于该矩形基板之顶面, 以将该矩形基板上之该反应液体洗除。 16.如申请专利范围第15项所述之湿式处理设备,其 中该些第二滚轮系位于每两相邻之该些第一滚轮 之间。 17.如申请专利范围第15项所述之湿式处理设备,另 包括一第一环状弹性构件,其中该第一环状弹性构 件系配置于每一该些第一滚轮之该滚轮面上。 18.如申请专利范围第15项所述之湿式处理设备,其 中该些第一滚轮为主动滚轮。 19.如申请专利范围第15项所述之湿式处理设备,其 中该些第一滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被 动滚轮。 20.如申请专利范围第15项所述之湿式处理设备,其 中该些第二滚轮为主动滚轮。 21.如申请专利范围第15项所述之湿式处理设备,其 中该些第二滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被 动滚轮。 22.如申请专利范围第15项所述之湿式处理设备,其 中该些第二滚轮为被动滚轮。 23.如申请专利范围第15项所述之湿式处理设备,其 中该第一滚轮另包括: 一滚轮部,具有该滚轮面;以及 一导引部,系与该滚轮部连接,其中该导引部具有 一朝向该滚轮面倾斜之导引斜面。 24.如申请专利范围第15项所述之湿式处理设备,另 包括: 复数个第三转轴;以及 复数个第三滚轮,该些第三滚轮分别配置于该些第 三转轴上,并沿着该传送路径排列,且位于该些第 一滚轮之上方,其中每一该些第三滚轮具有一滚轮 面,系与该矩形基板之顶缘接触。 25.如申请专利范围第24项所述之湿式处理设备,其 中该些第三滚轮为主动滚轮。 26.如申请专利范围第24项所述之湿式处理设备,其 中该些第三滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被 动滚轮。 27.如申请专利范围第24项所述之湿式处理设备,其 中该些第三滚轮为被动滚轮。 28.如申请专利范围第15项所述之湿式处理设备,另 包括一第二环状弹性构件,其中该第二环状弹性构 件系配置于每一该些第三滚轮之该滚轮面上。 29.如申请专利范围第15项所述之湿式处理设备,另 包括一气体供应装置,其中该气体供应装置系配置 于该反应液体供给装置及该清洗液供给装置之间, 且位该矩形基板的上方,该气体供给装置适于喷射 一气体于该矩形基板之顶面,以将该矩形基板上之 该反应液体吹除。 30.如申请专利范围第15项所述之湿式处理设备,其 中该处理室系为一U型处理室。 图式简单说明: 第1A图是绘示习知传送机构的侧面示意图; 第1B图是绘示习知传送机构的正面示意图; 第2A图及第2B图是绘示习知传送机构造成矩形基板 偏移传送的俯视示意图; 第3图是绘示习知传送机构造成矩形基板破片的示 意图; 第4图是绘示本发明一较佳实施例之湿式处理设备 之配置示意图; 第5A图是绘示本发明之一较佳实施例之传送机构 的侧面示意图; 第5B图是绘示本发明之一较佳实施例之传送机构 的俯视示意图; 第6A图是绘示本发明之一较佳实施例之传送机构 的正面示意图;以及 第6B图是绘示本发明之另一较佳实施例之传送机 构的正面示意图。 |
