| 发明名称 |
Method and device for plasma-etching organic material film |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003296132(A8) |
申请公布日期 |
2004.07.29 |
| 申请号 |
AU20030296132 |
申请日期 |
2003.12.25 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED;KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA |
发明人 |
SHOICHIRO MATSUYAMA;KAZUYA NAGASEKI;HISATAKA HAYASHI;MASANOBU HONDA |
| 分类号 |
H05H1/46;H01J37/32;H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/768;H01L23/522;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H05H1/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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