| 发明名称 |
Protection of low-k ILD during damascene processing with thin liner |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US2004147117(A1) |
申请公布日期 |
2004.07.29 |
| 申请号 |
US20040759170 |
申请日期 |
2004.01.20 |
| 申请人 |
ADVANCED MICRO DEVICES INC |
发明人 |
NGO MINH VAN;WOO CHRISTY MEI-CHU;AVANZINO STEVEN C;SANCHEZ JOHN E;PANGRLE SUZETTE K |
| 分类号 |
H01L21/44;H01L21/4763;H01L21/768;H01L23/48;(IPC1-7):H01L21/476 |
主分类号 |
H01L21/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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