| 发明名称 | 用于抗光蚀剂的新的单体,单体聚合物及其抗光蚀剂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于制备抗光蚀剂聚合物的新的单体，抗光蚀剂聚合物及其抗光蚀剂组合物。本发明的单体由下列化学式1所表示。∴ | ||
| 申请公布号 | CN1159319C | 申请公布日期 | 2004.07.28 |
| 申请号 | CN99118358.4 | 申请日期 | 1999.08.26 |
| 申请人 | 现代电子产业株式会社 | 发明人 | 郑载昌;卢致亨;郑旼镐;孔根圭;李根守;白基镐 |
| 分类号 | C07D495/08;C07D493/08;C07D495/22;C07D493/22;C08F234/00;G03F7/039;G03F7/00;H01L21/02;H01L21/31;//(C07D495/08,333∶00,333∶00) | 主分类号 | C07D495/08 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 王达佐;王维玉 |
| 主权项 | 1.一种下列化学式1表示的抗光蚀剂单体：<img file="C9911835800021.GIF" wi="282" he="288" />化学式1其中，X和Y各自代表氧，硫或CH<sub>2</sub>；n代表1～5的整数；R<sub>1</sub>、R<sub>2</sub>和R<sub>3</sub>各自代表氢；R<sub>4</sub>代表-COO-R′-OH，其中R′为C<sub>1</sub>～C<sub>5</sub>亚烷基。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||