发明名称 | 矩阵式显示元件及其制造方法 | ||
摘要 | 一种矩阵式显示元件及其制造方法,其目的在于既维持成本低、生产率高及光学材料的自由度高等特征、又提高布线图形制作精度。为了达到该目的,如果是无源矩阵式显示元件,则利用第一总线布线,或者,如果是有源矩阵式显示元件,则利用扫描线、信号线、公用供电线、象素电极、层间绝缘膜、遮光层等,在显示基板上形成台阶、所希望的疏液性和亲液性的分布、或所希望的电位分布等,然后,利用它们有选择地将液态光学材料涂敷在规定位置。 | ||
申请公布号 | CN1516528A | 申请公布日期 | 2004.07.28 |
申请号 | CN03140903.2 | 申请日期 | 1997.09.18 |
申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 木村睦;木口浩史 |
分类号 | H05B33/10;G09F9/30 | 主分类号 | H05B33/10 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 孟凡宏 |
主权项 | 1.一种显示元件的制造方法,该显示元件具有将光学材料有选择地配置在显示基板上的规定位置的结构,其特征在于包括以下工序:在所述显示基板上形成多条第一总线布线的工序;在所述显示基板上的所述规定位置与其周围之间的边界部分上形成用以涂敷所述液体光学材料的台阶的工序;利用所述台阶将所述光学材料涂敷在所述规定位置的工序;隔着剥离层在剥离用基板上形成多条第二总线布线的工序;以及将从所述剥离用基板上的所述剥离层剥离的结构复制在涂敷了所述光学材料的显示基板上,以使所述第一总线布线和所述第二总线布线相交的工序。 | ||
地址 | 日本东京都 |