| 发明名称 | 清洁气和蚀刻气 | ||
| 摘要 | 本发明的室清洁气和用于含硅膜的蚀刻气包括含2－4个氧原子的全氟环醚，所述氧原子以醚键与碳原子连接。室清洁气和蚀刻气几乎不产生有害废气如CF<SUB>4</SUB>，CF<SUB>4</SUB>是全球变暖的原因之一，并且对环境有害。它们是无毒气体或挥发性液体，易使用，并且在废气处理方面性能优良。此外，本发明的室清洁气具有优良的清洁速率。 | ||
| 申请公布号 | CN1516892A | 申请公布日期 | 2004.07.28 |
| 申请号 | CN03800417.8 | 申请日期 | 2003.01.28 |
| 申请人 | 财团法人地球环境产业技术研究机构;独立行政法人产业技术综合研究所 | 发明人 | 大平丰;三井有规;米村泰辅;关屋章 |
| 分类号 | H01L21/205;C09K13/08;C23C16/44;H01L21/3065 | 主分类号 | H01L21/205 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 周承泽 |
| 主权项 | 1.一种室清洁气，包括含2-4个氧原子的全氟环醚，所述氧原子以醚键与碳原子连接。 | ||
| 地址 | 日本京都府 | ||