发明名称 METHOD OF ETCHING HIGH ASPECT RATIO FEATURES
摘要
申请公布号 EP1439900(A2) 申请公布日期 2004.07.28
申请号 EP20020773707 申请日期 2002.10.31
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 MOSDEN, AELAN;HYLAND, SANDRA;KAJIMOTO, MINORI
分类号 H01L21/3065;H01L21/00;H01L21/67;(IPC1-7):B01J2/00 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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