| 发明名称 |
Radiation-generating devices utilizing multiple plasma-discharge sources and microlithography apparatus and methods utilizing the same |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1298965(A3) |
申请公布日期 |
2004.07.28 |
| 申请号 |
EP20020017814 |
申请日期 |
2002.08.07 |
| 申请人 |
NIKON CORPORATION |
发明人 |
KONDO, HIROYUKI;MURAKAMI, KATSUHIKO |
| 分类号 |
G21K1/00;G03F7/20;G21K5/02;H01L21/027;H05G1/02;H05G2/00;(IPC1-7):H05G2/00;H05H1/24 |
主分类号 |
G21K1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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