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发明名称 COMPLEMENTARY MASK, FABRICATION METHOD THEREOF, EXPOSURE METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND FABRICATION METHOD THEREOF
摘要
申请公布号 KR20040065986(A) 申请公布日期 2004.07.23
申请号 KR20037009292 申请日期 2002.11.12
申请人 发明人
分类号 H01L21/027;G03F1/20 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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