Verfahren und Gerät zum Reinigen eines Halbleitersubstrats

摘要

Es wird eine Abstreiflösung auf die Oberfläche eines Substrats zugeführt und es wird ein wechselndes Magnetfeld an das Substrat angelegt. Das wechselnde Magnetfeld induziert einen Strom in einem leitenden Muster des Substrats, der das leitende Muster aufheizt, während die Abstreiflösung in Berührung mit dem Substrat steht. Die Abstreiflösung, die Teilchen enthält, welche von dem Substrat zu entfernen sind, wird dann von dem Substrat entfernt.