可调节力作用空气台板与主轴系统及其使用方法

摘要

本发明提供了可调台板，该可调台板(122)包括具有顶部区与底部区的台板主体。该台板主体定位于CMP系统(100)的直线抛光垫(18)下。此台板主体在其顶部区与一空气轴承结合，此空气轴承(124)构造成能给直线抛光垫下侧施加空气压力。有一组轴承(132)与台板主体的底部区连接，以便能使上述顶部区根据施加的空气压力进行移近与移离直线抛光垫下侧的垂直运动。所施加的空气压力形成为可将可控制力作用于直线抛光垫下侧。控制此力以能满足要求的过程参数，而支座(102)简单地将晶片移动到直线抛光垫之上。

主权项

1.一种化学机械平整(CMP)系统，此系统具有一抛光垫、一晶片支座和一可调台板，所述可调台板包括：一台板主体；结合于上述台板主体中用来对抛光垫下侧施加空气压力的一空气轴承；一组连接到台板主体的轴承，以便使台板主体能移近和移离抛光垫下侧；与此台板主体连接的载荷传感器，此载荷传感器构造成输出一指明拟施加到抛光垫下侧的力的负荷信号；以及用以将空气流施加给此空气轴承的一空气源，空气流量则可根据施加到抛光垫下侧的力的变化而调节。