发明名称 |
集成电路的布图设计装置、布图设计方法及布图设计程序 |
摘要 |
在现有的布图设计方法中,为了生成元件单元而必须输入坐标数据,作业繁杂。本发明通过执行包含以下步骤的处理来解决上述课题。本发明的布图设计方法包括:参数取得步骤(S12),取得用于规定单元电阻的电阻值RUNIT、连接类型RCOM、并联配置数PARA_N及串联配置数SERI_N的参数;以及元件单元生成步骤(S14),根据规定电阻值RUINIT的参数来确定单元电阻的基本结构,根据规定连接类型RCOM、并联配置数PARA-N及串联配置数SERI_N的参数,配置并连接单元电阻的基本结构,进行电阻元件的布图。 |
申请公布号 |
CN1514483A |
申请公布日期 |
2004.07.21 |
申请号 |
CN200310114987.1 |
申请日期 |
2003.11.14 |
申请人 |
三洋电机株式会社 |
发明人 |
岛村哲夫;鹿仓康弘 |
分类号 |
H01L21/82;G06F17/50 |
主分类号 |
H01L21/82 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王永刚 |
主权项 |
1.一种布图设计方法,用于进行使单元电阻连接从而构成电阻元件的布图,其特征在于,该方法包括:参数取得步骤,取得规定单元电阻的电阻值、连接类型、并联配置数及串联配置数的参数;以及元件单元生成步骤,根据规定所述电阻值的参数来确定单元电阻的基本结构,根据规定所述连接类型、所述并联配置数及所述串联配置数的参数来配置并连接所述单元电阻的基本结构,进行电阻元件的布图。 |
地址 |
日本大阪府 |