| 发明名称 | 用于判定加工层膜均匀性的方法及装置 | ||
| 摘要 | 一种用于判定加工层膜的均匀性的方法包含提供具有栅格结构及形成于该栅格结构表面上的加工层膜的晶片；以光源照射至少部分于该栅格结构上层的加工层膜；测量来自于该栅格结构及该加工层膜的照射的部分的光线以产生反射轮廓；以及基于该反射轮廓判定该加工层膜的均匀性。一种适用于接收具有栅格结构及形成于该栅格结构表面上的加工层膜的晶片的测量机台包含光源、侦测器及数据处理单元。该光源适用于照射至少部分于该栅格结构上层的加工层膜。该侦测器适用于测量来自于该栅格结构及该加工层膜的照射的部分反射的光线以产生反射轮廓。该资处理单元基于该产生的反射轮廓而适用于判定该加工层膜的均匀性。 | ||
| 申请公布号 | CN1515030A | 申请公布日期 | 2004.07.21 |
| 申请号 | CN02811527.9 | 申请日期 | 2002.04.02 |
| 申请人 | 先进微装置公司 | 发明人 | M·I·赖特 |
| 分类号 | H01L21/66;G01B11/06 | 主分类号 | H01L21/66 |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 戈泊;程伟 |
| 主权项 | 1.一种用于判定加工层膜(410)的均匀性的方法，包括：提供具有栅格结构(400)的晶片(205)及形成于该栅格结构(400)表面上的加工层膜(410)；以光源(222)照射至少部分位于该栅格结构(400)上层的加工层膜(410)；测量由该栅格结构(400)的被照射的部分及加工层膜(410)所反射的光线以产生反射轮廓；以及基于该反射轮廓判定该加工层膜(410)的均匀性。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||