发明名称 |
DISPOSITIF POUR PRODUIRE UN FAISCEAU PARALLELE AYANT UN FLUX INTENSE |
摘要 |
<P>Un appareil pour produire un faisceau parallèle ayant un flux intense est décrit. L'appareil de la présente invention comprend une source de lumière, un premier miroir et un second miroir. La source de lumière est située à un premier point focal d'une première ellipse (72). Le premier miroir est situé sur la première ellipse pour réfléchir un faisceau émis par la source de lumière, le premier miroir ayant une forme concave adaptée à une section de la première ellipse. Le second miroir est situé en travers du trajet du faisceau réfléchi par le premier miroir, le second miroir ayant une forme convexe adaptée à une section d'une seconde ellipse (73), de sorte qu'un angle formé par deux droites tangentes passant par chaque paire de points d'incidence de rayons voisins rencontrant le second miroir respectivement est égal à la moitié d'un angle formé par deux droites tangentes passant par chaque paire de points d'incidence de rayons voisins rencontrant le premier miroir, respectivement.</P>
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申请公布号 |
FR2849930(A1) |
申请公布日期 |
2004.07.16 |
申请号 |
FR20030005443 |
申请日期 |
2003.05.05 |
申请人 |
KOREA ATOMIC ENERGY RESEARCH INSTITUTE;KOREA HYDRO & NUCLEAR POWER CO., LTD |
发明人 |
CHU SANG JIN;LEE CHANG HEE;KIM YOUNG JIN;LEE JEONG SOO;CHOI YOUNG HYUN;HONG KWANG PYO |
分类号 |
G01N23/202;G02B5/10;G03F7/20;G21K1/06;G21K5/02;H05H3/06;(IPC1-7):G02B27/09;G02B17/00 |
主分类号 |
G01N23/202 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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