发明名称 具铅直MOS晶体管之DRAM胞元排列及其制造方法
摘要 沿着内存胞元矩阵的某一行(column)所排列的信道区域(6)乃是一被闸极介电层(9)所围绕的肋条(7)之一部分。属于某列(row)的MOS晶体管之闸电极(11,12)则是一类似条状之字符线(10)的一部份,以致于在该内存胞元矩阵的每个交叉点都各具有一伴随着联合字符线(10)之闸电极(11,12)的铅直双闸极MOS晶体管,其中该联合字符线(10)系位于联合肋条(7)两侧上的沟渠(5)之中。
申请公布号 CN1513208A 申请公布日期 2004.07.14
申请号 CN02810908.2 申请日期 2002.05.23
申请人 因芬尼昂技术股份公司 发明人 B·李;T·施莱塞
分类号 H01L27/108;H01L21/8242 主分类号 H01L27/108
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 程天正;梁永
主权项 1.一种具有铅直MOS晶体管的DRAM胞元排列,-系包含一内存胞元的排列矩阵,其中每个内存胞元各具有一MOS晶体管以及一与该MOS晶体管相连结的电容器(18,19,20),其中该MOS晶体管各具有以层状而由上至下相互堆栈的一上部源极/汲极区域(4)、一信道区域(6)以及一下部源极/汲极区域(15),-其中该内存胞元矩阵之MOS晶体管的信道区域(6)系被排列于列(row)以及行(column)之中,且沿着其中一行(column)所排列的信道区域(6)系为在一基板(1)中水平运作之肋条(7)的一部份,-其中每个肋条(7)的两侧系分别被一闸极介电层(9)所围绕并且是位在该上部源极/汲极(4)之上,-其中沿着该内存矩阵之某一列(row)所排列的MOS晶体管之闸电极(11,12)系为一类似条状之字符线(10)的一部份,该字符线(10)系与位在该肋条(7)之上的该列(row)相平行而运作,并自上方开始充填沿着行(column)方向的肋条(7)之间而产生的沟渠(5),直到其超出该字符线(10)之宽度,-以致于在内存胞元矩阵的每个交叉点都有一具有联合字符线(10)的闸电极(11,12)的铅直双闸极MOS晶体管,其中该联合字符线(10)系位于联合肋条(7)的两侧上之沟渠(5)之中。
地址 德国慕尼黑