| 发明名称 | 用于铜基材的化学机械抛光浆料 | ||
| 摘要 | 公开了一种包括氧化剂、配合剂、磨料和非必要的表面活性剂的化学机械抛光浆料，以及由该化学机械抛光浆料从基材中除去铜合金、钛、氮化钛、钽和氮化钛层的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1157450C | 申请公布日期 | 2004.07.14 |
| 申请号 | CN99806193.X | 申请日期 | 1999.03.18 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 弗拉斯塔·B·考夫曼;罗德尼·C·基斯特勒;王淑敏 |
| 分类号 | C09G1/02;C09K3/14;//H01L21/302 | 主分类号 | C09G1/02 |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 1.一种化学机械抛光浆料，包括：一种磨料；至少一种选自过氧化氢、过氧化氢脲和其混合物的氧化剂；和0.1至5.0重量％的选自柠檬酸、乳酸、酒石酸、琥珀酸、丙二酸、乙二酸、氨基酸、其盐和其混合物的配合剂，其中该浆料的pH为5-9，且该浆料不包括成膜剂。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||