| 发明名称 |
A method and apparatus for forming a high quality low temperature silicon nitride layer |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003303136(A8) |
申请公布日期 |
2004.07.14 |
| 申请号 |
AU20030303136 |
申请日期 |
2003.12.19 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
AIHUA (STEVEN) CHEN;SHULIN WANG;ERROL ANTONIO C. SANCHEZ |
| 分类号 |
C23C16/34;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/56;H01L21/30;H01L21/314;H01L21/318;H01L21/336;(IPC1-7):C23C16/34 |
主分类号 |
C23C16/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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