| 摘要 |
<p>DONDE EL PROCESO COMPRENDE: a) INDUCIR UNA DENSIDAD DE CORRIENTE NO UNIFORME A TRAVES DE LA SUPERFICIE DE DEPOSITO DE UN CATODO, DE MANERA DE FORMAR ZONAS DE DENSIDAD DE CORRIENTE ALTA INTERCALADAS POR ZONAS DE DENSIDAD DE CORRIENTE BAJA, EN DONDE LA DIFERENCIA ENTRE LAS DENSIDADES DE CORRIENTE ALTA Y BAJA ES SUFICIENTE PARA HACER QUE EL DEPOSITO DE METAL SE CONCENTRE EN LAS ZONAS DE DENSIDAD DE CORRIENTE ALTA PARA CONTRIBUIR AL DEPOSITO NO UNIFORME DE METAL A LO LARGO DE LA SUPERFICIE DE DEPOSITO; Y, b) RETIRAR EL METAL DEPOSITADO PASANDO POR LA SUPERFICIE UN ELEMENTO QUE SE MUEVE EN LA DIRECCION EN LA QUE SE EXTIENDEN DICHAS ZONAS, MIENTRAS SE MANTIENE EL FLUJO DE CORRIENTE EN LA SOLUCION ACUOSA. LA CELDA INCLUYE: i) UN CATODO QUE COMPRENDE UNA SUPERFICIE DE DEPOSITO SOBRE LA CUAL SE DEPOSITA EL METAL; b) UNA PRIMERA Y SEGUNDA LAMINAS DE GROSOR UNIFORME HECHAS DE TITANIO, QUE TIENEN AL MENOS UNA SUPERFICIE PRINCIPAL QUE FORMA LA SUPERFICIE DE DEPOSITO DE (i), SIENDO PREFORMADAS DE MODO QUE INCORPORAN LOS PICOS Y VALLES ALTERNADOS QUE FORMAN DICHAS ZONAS; c) UN ELEMENTO CONDUCTOR RECIBIDO POR LAS CAVIDADES DE (b), PARA PROPORCIONARLE ELECTRONES DURANTE LA ELECTROLISIS; Y, d) UN DISPOSITIVO DE ESCOBILLADO PARA RETIRAR EL MATERIAL DEPOSITADO. LA CELDA OPERA PARA RECUPERAR COBRE A PARTIR DE LA SOLUCION ACUOSA ESTANDO LA DENSIDAD DE CORRIENTE ALTA EN EL RANGO DE 500 A/m2 A 2500 A/m2 Y LA DENSIDAD DE CORRIENTE BAJA EN EL RANGO DE 0 A/m2 A 1250 A/m2</p> |
