摘要 |
Zur Herstellung einer Zr(B¶x¶C¶y¶N¶z¶)-Schicht mit x + y + z = 1 und x: 0,001 bis 0,05, y von 0 bis 0,95 und z von 0 bis 0,95 im CVD-Verfahren wird eine Prozessgas verwendet, das über 5 Vol.-% Zr-Halogenid und weniger als 5 Vol.-% Borhalogenid enthält. Die entstehenden Schichten eignen sich als Verschleißschutz oder als Dekorschicht.
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