| 发明名称 |
Reflective mask with high inspection contrast |
| 摘要 |
A reflective mask may include an anti-reflective (AR) coating on an absorber layer to improve inspection contrast in an inspection system using deep ultraviolet (DUV) light. A silicon nitride (Si3N4) AR coating may be used on a chromium (Cr) or tantalum nitride (TaN) absorber layer.
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| 申请公布号 |
US2004131948(A1) |
申请公布日期 |
2004.07.08 |
| 申请号 |
US20030339617 |
申请日期 |
2003.01.08 |
| 申请人 |
INTEL CORPORATION |
发明人 |
YAN PEI-YANG |
| 分类号 |
G03F1/14;G03F7/20;(IPC1-7):G03C5/00;G21K5/00;G03F9/00 |
主分类号 |
G03F1/14 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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