| 发明名称 | 光强度分布测量方法及光强度分布测量装置 | ||
| 摘要 | 一种能更正确地求得从半导体激光器射出的激光束的光强度分布的光强度分布测量方法及光强度分布测量装置，光强度分布测量装置(10)是用来测量从半导体激光器射出的激光束的光强度的光强度测量装置(12)，具有用来测量从半导体激光器(11)射出的激光束与对该光强度测量装置(12)的测量结果用t分布函数算出光强度分布的数据处理装置(13)。 | ||
| 申请公布号 | CN1510663A | 申请公布日期 | 2004.07.07 |
| 申请号 | CN200310120749.1 | 申请日期 | 2003.12.05 |
| 申请人 | 株式会社三协精机制作所 | 发明人 | 酒井博 |
| 分类号 | G11B7/00;G11B7/08 | 主分类号 | G11B7/00 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 谢喜堂 |
| 主权项 | 1.一种光强度分布测量方法，用来测量从半导体激光器射出的激光束的光强度分布，其特征在于：测量从所述半导体激光器射出的激光束的多个部位的光强度，将该测量结果用t分布函数算出光强度分布。 | ||
| 地址 | 日本长野县诹访郡 | ||