| 发明名称 | 通过照明源优化提供透镜像差补偿的方法和设备 | ||
| 摘要 | 一种补偿透镜象差的方法，包括步骤：(a)限定一个成本尺度，该成本尺度量化成像系统的成像性能，所述的成本尺度反映了投影透镜的透镜像差对成像性能的影响；(b)限定光源照明轮廓；(c)根据光源照明轮廓估算成本尺度；(d)修正光源照明轮廓，并且根据修正过的光源照明轮廓重新估算成本尺度；和(e)重复步骤(d)直到将成本尺度降到最小。对应于所述最小化成本尺度的光源照明轮廓代表成象装置的最佳照明。 | ||
| 申请公布号 | CN1510520A | 申请公布日期 | 2004.07.07 |
| 申请号 | CN200310123745.9 | 申请日期 | 2003.11.12 |
| 申请人 | ASML蒙片工具有限公司 | 发明人 | A·利布岑 |
| 分类号 | G03F7/20;H01L21/027 | 主分类号 | G03F7/20 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 章社杲 |
| 主权项 | 1.一种补偿透镜象差的方法，所述方法包括步骤：(a)限定一个成本尺度，量化成像系统的成像性能，所述的成本尺度反映了透镜像差对成像性能的影响；(b)限定一个光源照明轮廓；(c)根据所述光源照明轮廓估算所述成本尺度；(d)修正所述光源照明轮廓，并且根据修改过的光源照明轮廓重新估算所述成本尺度；和(e)重复步骤(d)直到将所述成本尺度降到最小。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||