发明名称 | 蒸发掩模和采用此掩模来制造有机场致发光器件的方法 | ||
摘要 | 提供了一种蒸发掩模,一种采用此蒸发掩模来制造有机场致发光器件的方法,以及用上述方法制出的有机场致发光器件。蒸发掩模由薄膜形成并通过施加张力来拉紧。蒸发掩模包括至少一个掩模单元,该掩模单元包括多个主开口和多个第一假开口,该第一假开口形成于在对蒸发掩模施加张力的方向上的最外侧主开口的附近。 | ||
申请公布号 | CN1510971A | 申请公布日期 | 2004.07.07 |
申请号 | CN200310120762.7 | 申请日期 | 2003.12.01 |
申请人 | 三星日本电气移动显示株式会社 | 发明人 | 重村莘治;姜敞皓 |
分类号 | H05B33/10;C23C14/04;C23C14/24 | 主分类号 | H05B33/10 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 章社杲 |
主权项 | 1.一种由薄膜形成的蒸发掩模,其中所述蒸发掩模通过施加张力来拉紧,并且包括:至少一个掩模单元,其包括:多个主开口,以及多个第一假开口,其形成于在对所述蒸发掩模施加张力的方向上的最外侧主开口的附近。 | ||
地址 | 韩国蔚山广域市 |