发明名称 |
微晶芯片像素位移方法 |
摘要 |
本发明涉及一种用于提高图像像素密度的微晶芯片像素位移方法,包括倾斜设置在曝光机构中微晶芯片与物镜之间的透光玻璃板,其特点是,设定与微晶芯片的晶格相适配的透光玻璃板的倾斜度,将透光玻璃板在0°,旋转至90°、180°、270°的位置分别曝光的四个步骤,使光线进入倾斜放置的透光玻璃板时,光线产生偏折,进入透光玻璃板的光线与射出透光玻璃板的光线相互平行,射出光线分别到达A点、B点、C点、D点,产生位移后的像素A、B、C、D,使相纸上产生位移后的成像潜影A′、B′、C′、D′该方法操作简便、实用,可达到提高像素密度数倍的图像,性能价格比优越。 |
申请公布号 |
CN1510524A |
申请公布日期 |
2004.07.07 |
申请号 |
CN02157745.5 |
申请日期 |
2002.12.25 |
申请人 |
上海力保科技有限公司 |
发明人 |
朱宗曦;杨爱萍;朱毅;糜卫东;陈云祥;朱汝平;朱宗昇;毛晓雯 |
分类号 |
G03F7/22;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/22 |
代理机构 |
上海专利商标事务所 |
代理人 |
左一平 |
主权项 |
1、一种微晶芯片像素位移方法,包括倾斜设置在曝光机构中微晶芯片与物镜之间的透光玻璃板,其特征在于:设定与微晶芯片的晶格相适配的透光玻璃板的倾斜度,进行以下四个步骤:步骤1,保持微晶芯片与物镜静止,在透光玻璃板起始点O位置曝光,光线进入倾斜放置的透光玻璃板时,光线产生偏折,进入透光玻璃板的光线与射出透光玻璃板的光线相互平行,射出光线到达A点,产生位移后的像素A,使相纸上产生位移后的成像潜影A′;步骤2,将透光玻璃板旋转180°,在相对于起始点O位置的180°位置曝光,光线进入倾斜放置的透光玻璃板时,光线产生偏折,进入透光玻璃板的光线与射出透光玻璃板的光线相互平行,射出光线到达B点,产生位移后的像素B,使相纸上产生位移后的成像潜影B′;步骤3,将透光玻璃板旋转90°,在相对于起始点O位置的90°位置曝光,光线进入倾斜放置的透光玻璃板时,光线产生偏折,进入透光玻璃板的光线与射出透光玻璃板的光线相互平行,射出光线到达C点,产生位移后的像素C,使相纸上产生位移后的成像潜影C′;步骤4,将透光玻璃板旋转270°,在相对于起始点O位置的270°位置曝光,光线进入倾斜放置的透光玻璃板时,光线产生偏折,进入透光玻璃板的光线与射出透光玻璃板的光线相互平行,射出光线到达D点,产生位移后的像素D,使相纸上产生位移后的成像潜影D′。 |
地址 |
200092上海市杨浦区控江路1555号信息技术大厦11楼 |