具有可扩展薄片的杂质屏蔽

摘要

本发明涉及用于光刻投射装置的箔收集器。该箔收集器形成一开放的结构，从而让来自例如EUV源的辐射不受阻碍地通过。该箔收集器包括薄片，设置为捕获来自辐射源的碎片粒子。薄片从箔收集器轴沿径向延伸。为了防止机械压力，该薄片可滑动地连接在一个或两个环的槽中。这样，该薄片能够轻易扩展，并且避免了机械压力，因此薄片没有变形。该薄片的至少一个外部边缘与环热连接。该环可以通过冷却系统冷却。在一优选实施例中，该箔收集器包括一屏蔽，以保护内环不被EUV光束照射。

主权项

1.一种杂质屏蔽，用于使来自辐射源的辐射通过，并捕获来自所述辐射源的碎片，所述的杂质屏蔽包括从主轴沿径向延伸的许多薄片，每一所述的薄片被定位在包含所述主轴的各自的平面内，其特征在于，该杂质屏蔽包括内环和外环，每一所述的薄片被可滑动地定位在所述内环和外环至少其中之一的槽中的其至少一个外部边缘上。