| 发明名称 | 熔丝结构的形成方法 | ||
| 摘要 | 一种熔丝结构的形成方法，其中熔丝上的钝化材料具有可控的基本上均匀的厚度，在形成C4冶金结构之后提供熔丝。也公开了由该方法形成的用于熔丝的激光熔丝消除工艺。 | ||
| 申请公布号 | CN1510735A | 申请公布日期 | 2004.07.07 |
| 申请号 | CN200310115498.8 | 申请日期 | 2003.11.26 |
| 申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | T·H·道本斯佩克;J·P·甘比诺;W·T·莫特西夫 |
| 分类号 | H01L21/768 | 主分类号 | H01L21/768 |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 于静;李峥 |
| 主权项 | 1.一种形成熔丝结构的方法，包括：提供其内包括C4冶金接触焊盘和熔丝的基板；在所述C4冶金接触焊盘和所述熔丝上形成耐蚀刻层；在所述耐蚀刻层上形成至少一个钝化层；除去所述至少一个钝化层和所述耐蚀刻层的至少第一部分，以露出所述C4冶金接触焊盘；在所述C4冶金接触焊盘上形成C4冶金结构；以及此后除去所述至少一个钝化层的至少第二部分以露出所述熔丝上的所述耐蚀刻层。 | ||
| 地址 | 美国纽约 | ||