| 发明名称 |
SUBSTRAT A BASE DE SILICIUM POREUX ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN TEL SUBSTRAT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2826177(B1) |
申请公布日期 |
2004.07.02 |
| 申请号 |
FR20010007861 |
申请日期 |
2001.06.15 |
| 申请人 |
STMICROELECTRONICS SA |
发明人 |
BENSAHEL DANIEL;HALIMAOUI AOMAR |
| 分类号 |
H01L21/02;H01L21/306;H01L23/15;H01L27/08;H05K1/03;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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