发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要 一种半导体装置,由数个部分层(1)(2)(3)(4)构成,其中有一个部分层(4)在横截面BC的绝大部分范围中在半导体装置(20)的内部直接邻界到一第一部分层(2),且该横截面BC的较狭小的边缘区域中邻界到一第二部分层,此半导体装置之特色为在边缘区域且路线电阻小穿透电压高,此外还关于一种制造此手导体装置的方法。
申请公布号 TW200411942 申请公布日期 2004.07.01
申请号 TW092125881 申请日期 2003.09.19
申请人 罗伯特博斯奇股份有限公司 发明人 戴娜 卡波勒;阿尔伏瑞德 歌尔拉诃;瑞奇 许毕兹
分类号 H01L29/861 主分类号 H01L29/861
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 德国