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发明名称
半导体装置及其制造方法
摘要
一种半导体装置,由数个部分层(1)(2)(3)(4)构成,其中有一个部分层(4)在横截面BC的绝大部分范围中在半导体装置(20)的内部直接邻界到一第一部分层(2),且该横截面BC的较狭小的边缘区域中邻界到一第二部分层,此半导体装置之特色为在边缘区域且路线电阻小穿透电压高,此外还关于一种制造此手导体装置的方法。
申请公布号
TW200411942
申请公布日期
2004.07.01
申请号
TW092125881
申请日期
2003.09.19
申请人
罗伯特博斯奇股份有限公司
发明人
戴娜 卡波勒;阿尔伏瑞德 歌尔拉诃;瑞奇 许毕兹
分类号
H01L29/861
主分类号
H01L29/861
代理机构
代理人
林镒珠
主权项
地址
德国
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