浅沟渠隔离区的制造方法

摘要

一种浅沟渠隔离区的制造方法，此方法系首先提供一晶圆，其中晶圆上已形成有一罩幕层。接着，提供一空白晶圆，并且将空白晶圆送进一蚀刻机台中以进行一蚀刻制程。之后，检视空白晶圆产生之一缺陷数量，倘若空白晶圆上之缺陷数量小于一标准值，才将晶圆送进蚀刻机台中以进行蚀刻制程，而于晶圆中定义出一沟渠。继之，在沟渠中填入一绝缘层，然后将罩幕层移除，而形成一浅沟渠隔离区。