| 摘要 |
本发明的半透光型显示装置之制造方法具备有：形成遮光膜14于透光基板上的透光显示范围20的制程、涂布感光性有机膜7于形成遮光膜14的透光基板1上的制程、将感光性有机膜7曝光以及显像后，贯通透光显示范围20的感光性有机膜7而形成贯通孔7a的制程、在形成贯通孔7a后，除去从贯通孔7a露出的遮光膜14的制程，以及在感光性有机膜7的上方形成反射膜9，以形成反射显示范围的制程。如此一来，在为了形成有机平坦化膜的曝光处理时，藉由平台反射穿透TFT阵列基板的光，可以防止由于有机平坦化膜的膜厚而造成可辨认的颜色不均匀。 |
