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发明名称
供形成高清晰度孔径之涂层
摘要
一种用于暗孔的光学薄膜堆叠,系以热离子协助沈积("IAD")法沈积。该IAD提供一种铬和氧化铬的高能沈积,使暗镜光学薄膜堆叠具有优良的蚀刻特性。边缘定义得到了改良,边缘外形可以藉由选择IAD参数加以控制。一种就地IAD清洁制程可用以充分地清洁基材,因而不再需要铬中间黏接层。
申请公布号
TW200411204
申请公布日期
2004.07.01
申请号
TW092114044
申请日期
2003.05.23
申请人
光学覆料实验室公司
发明人
保罗J. 嘉思罗丽
分类号
G02B1/10
主分类号
G02B1/10
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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