发明名称 供形成高清晰度孔径之涂层
摘要 一种用于暗孔的光学薄膜堆叠,系以热离子协助沈积("IAD")法沈积。该IAD提供一种铬和氧化铬的高能沈积,使暗镜光学薄膜堆叠具有优良的蚀刻特性。边缘定义得到了改良,边缘外形可以藉由选择IAD参数加以控制。一种就地IAD清洁制程可用以充分地清洁基材,因而不再需要铬中间黏接层。
申请公布号 TW200411204 申请公布日期 2004.07.01
申请号 TW092114044 申请日期 2003.05.23
申请人 光学覆料实验室公司 发明人 保罗J. 嘉思罗丽
分类号 G02B1/10 主分类号 G02B1/10
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国