| 摘要 |
一参考遮罩产生部分(referencemaskgeneratingpart)、检验遮罩产生单元(inspectingmaskgeneratingpart)、缺陷侦测部分(defectdetectingpart)放置于一缺陷侦测装置的控制部份(controlpart)的之中。根据一检验物件基板(inspectionobjectsubstrate)(一检验影像资料)之一被捕捉(captured)影像，该检验遮罩产生部分执行一将被检验之垫型图样(padpattern)的轮廓(contour)平滑处理，且经由执行与该参考遮罩产生部分所产生的一参考遮罩资料之逻辑或(logicalOR)运算来产生一检验遮罩资料。根据如此所产生的该检验遮罩资料，来检验该检验影像资料。进一步，该缺陷侦测部分执行先前已检验出之一特定缺陷的区域结合处理(regionjoinprocessing)。于收集微(micro)缺陷以形成一缺陷之个例中，该缺陷侦测部分将其侦测为一缺陷，且接着产生一缺陷资料。因此，于该基板上缺陷的遗漏可被抑制，同时该影像处理可以高速来执行。 |
