| 发明名称 |
Device processing apparatus and method having positive pressure with two partitions to minimize leakage |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU774646(B2) |
申请公布日期 |
2004.07.01 |
| 申请号 |
AU20010077288 |
申请日期 |
2001.10.01 |
| 申请人 |
ETHICON, INC. |
发明人 |
SZU-MIN LIN;MITCH AGAMOHAMADI |
| 分类号 |
B08B3/02;A61L2/02;A61L2/18;A61L2/20;A61L2/22;B08B3/04;B08B9/02;(IPC1-7):A61L2/16 |
主分类号 |
B08B3/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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