| 发明名称 | 测量薄层厚度的设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及了采用一个发射射向待测量层的X射线的X射线管(12)、依靠X射线测量薄层厚度的一个设备，设备具有至少一个设在X射线管(12)和待测量层之间的孔径装置(17)，孔径装置(17)包括一个吸收X射线的区域(26)和具有一个孔径开口(28)，其中在孔径装置(17)中至少一个孔径开口(28)具有一个几何形状，沿光线方向看，它投射一个至少在几处与待测量层几何形状相配合的区域(相关附图为图2)。 | ||
| 申请公布号 | CN1508513A | 申请公布日期 | 2004.06.30 |
| 申请号 | CN200310123119.X | 申请日期 | 2003.12.17 |
| 申请人 | 赫尔穆特菲舍尔房地产有限及两合公司 | 发明人 | 发明人请求不公开其姓名 |
| 分类号 | G01B15/02 | 主分类号 | G01B15/02 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 张金熹 |
| 主权项 | 1.一种测量薄层厚度的设备，采用一个发射射向待测量层的X射线的X射线管(12)，依靠X射线进行测量，该设备具有至少一个设在X射线管(12)和待测量层之间的孔径装置(17)，孔径装置(17)包括一个吸收X射线的区域(26)和具有一个孔径开口(28)，特征在于：在孔径装置(17)中至少一个孔径开口(28)具有一个几何形状，沿光线方向看，它投射一个至少在几处与待测量层几何形状相配合的区域。 | ||
| 地址 | 联邦德国辛德尔芬根 | ||