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发明名称 HIGH SENSITIVITY RESIST COMPOSITIONS FOR ELECTRON-BASED LITHOGRAPHY
摘要
申请公布号 AU2002351269(A1) 申请公布日期 2004.06.30
申请号 AU20020351269 申请日期 2002.12.05
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 WU-SONG HUANG;WENJIE LI;WAYNE MOREAU;DAVID, E. MEDEIROS;KAREN, E. PETRILLO;ROTBERT N. LANG;MARIE ANGELOPOULOS
分类号 G03F7/004;G03F7/039;G03F7/30;(IPC1-7):G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
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