| 发明名称 |
Photoresist copolymer, process for preparing the same and photoresist composition comprising the same |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2345286(B) |
申请公布日期 |
2004.06.30 |
| 申请号 |
GB19990029650 |
申请日期 |
1999.12.15 |
| 申请人 |
* HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO., LTD. |
发明人 |
JAE-CHANG * JUNG;KEUN KYU * KONG;MIN HO * JUNG;GEUN SU * LEE;KI HO * BAIK |
| 分类号 |
G03F7/004;C07C69/54;C08F22/10;C08F220/28;C08F222/06;C08F230/00;G03F7/039;(IPC1-7):C07C69/602;C08F22/14 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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