发明名称 亲水性构件
摘要 本发明提供一种洗净后亲水性在极短的时间内达到恢复,并且,恢复的亲水性具有高的持久性的亲水性构件。在作为基体材料的玻璃板1的表面形成氧化锡(SnO<SUB>2</SUB>)膜2,在该氧化锡(SnO<SUB>2</SUB>)膜2的表面形成了作为上敷层的氧化硅(SiO<SUB>2</SUB>)膜3。作为玻璃板1,是以SiO<SUB>2</SUB>作为主要成分的钠玻璃,氧化锡膜(SnO<SUB>2</SUB>)2,例如,用CVD法制成,其厚度为10~800nm,表面的表面平均粗糙度(Ra)为0.5~25nm。另外,氧化硅(SiO<SUB>2</SUB>)膜3用溅射法制成,其厚度为0.1~100nm。然而,因氧化硅(SiO<SUB>2</SUB>)膜3在上述氧化锡(SnO<SUB>2</SUB>)膜2上形成,所以,氧化锡膜(SnO<SUB>2</SUB>)2的凹凸被原样转移,氧化硅(SiO<SUB>2</SUB>)膜3的表面的表面平均粗糙度(Ra)也是0.5~25nm。
申请公布号 CN1155468C 申请公布日期 2004.06.30
申请号 CN99815987.5 申请日期 1999.11.30
申请人 东陶机器株式会社;日本板硝子株式会社 发明人 藤本英史;高桥一雄;武田宏二;田中启介;荻野悦男;森健次;平田昌宏
分类号 B32B9/00;B32B15/04;B32B17/06;B32B18/00;C03C17/23 主分类号 B32B9/00
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 魏金玺;杨丽琴
主权项 1.一种亲水性构件,该亲水性构件是在基体材料表面上直接地,或者通过碱性阻挡用的底层膜形成氧化锡层,在该氧化锡层表面上形成保护层的亲水性构件,其特征是,上述保护层是由从氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化铈以及氧化钛中选出的至少一种构成的,并且,最表面的表面平均粗糙度(Ra)为0.5~25nm,上述氧化锡具有金红石型的结晶结构。
地址 日本福冈县